近日，根據(jù)集邦咨詢的報告，全球半導(dǎo)體設(shè)備巨頭ASML位于荷蘭的一家工廠發(fā)生火災(zāi)，可能對極紫外光刻（EUV）設(shè)備的光學零組件供應(yīng)造成沖擊。這一事件引發(fā)了業(yè)界對半導(dǎo)體供應(yīng)鏈穩(wěn)定性的擔憂。

EUV光刻技術(shù)是先進芯片制造的核心，廣泛應(yīng)用于7納米及以下制程。ASML是全球唯一能夠生產(chǎn)EUV光刻機的廠商，其光學零組件，包括精密反射鏡和光源系統(tǒng)，是設(shè)備性能的關(guān)鍵。火災(zāi)可能影響這些高精度組件的生產(chǎn)，導(dǎo)致交付延遲，從而波及臺積電、三星等主要芯片制造商的產(chǎn)能規(guī)劃。

與此同時，報告中還提到，這一事件可能間接影響半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的長期發(fā)展，因為EUV供應(yīng)鏈的脆弱性暴露無遺。企業(yè)需加強風險管理和供應(yīng)鏈多元化，以應(yīng)對類似突發(fā)事件。

值得注意的是，報告標題中提及的“光合作用”可能為誤植或無關(guān)內(nèi)容，建議忽略。總體而言，ASML工廠火災(zāi)事件提醒我們，全球高科技產(chǎn)業(yè)高度依賴關(guān)鍵零組件，任何中斷都可能引發(fā)連鎖反應(yīng)，需引起高度重視。